产品信息 > 全自动双面光刻机 MA-4300系列

全自动双面光刻机 MA-4300系列

主要特长

    主要特长

    利用本公司独创的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。

    装载机侧和卸载机侧最多可设置两个篮具(选购项)。

    备有冷却机构,可进行基板台与掩膜的温度管理(选购项)。

    搭载本公司独创的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。

    搭载非接触预对位系统(PREALIGNER)。从而实现了高精度进给且保证基板不受任何损伤。

    搭载有自动掩膜更换机。并可支持掩膜存放库。可放置最多10片MASK


主要规格

※基板尺寸
请与我们联系