需求

• 采购用途:
  批量生产 实验研究 小批量试流 其他
• 贵单位产品类型、名称或研发课题方向:
• 贵单位所需光刻机类型:
  全自动光刻机（适合批量生产） 手动装卸基片自动对准光刻机（适合中批量流片） 手动装卸基片手动对准光刻机（适合小批量试流） 桌上型全手动光刻机（适合研发）
• 光刻类型：
  单面光刻 双面自动对准 正面光刻 现阶段为单面光刻，以后可能升级为双面光刻
• 所需光刻基片的衬底材料：
  硅基 化合物半导体 玻璃 其他
• 所需光刻基片的最大尺寸：
  2" 4" 6" 8" 12" 其他
• 所需光刻的最细线宽:
  10um 5-10um 1-5um 亚微米（小于1um） 100纳米 10纳米以下 其他
• 所需光刻对准精度：
  ±1um 以上 正面±1um 背面 +-1.5um 不需要对准
• 贵单位光刻间厂房设施情况：
  已具备 规划 6月 以后 MOVE IN 规划12个月以后 MOVE IN
• 预计光刻机采购时间：
  一到三个月 一个月 一星期
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