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全自动双面光刻机 MA-5301系列

主要特长

    搭载本公司独创的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。

    采用本公司独创的同轴对位方式和高速图像处理技术, 从而实现了高精度对位。还支持IR方式和背面方式。

    通过本公司独创的光学式间隙传感器,可在非接触状态下高速、精确的设定掩膜和基板间的近接间隙。

    搭载有掩膜更换机。最多可自动更换20张掩膜。

    最多可搭载3台片仓(Load port)


主要规格

※基板尺寸
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